SKIN1004 Madagascar Centella Watergel Sheet Ampoule Mask - 25 ml

SKIN1004 Madagascar Centella Watergel Sheet Ampoule Mask până la mască hidrogel cu extract de Centella Asiatica și acid hialuronic, care hidratează intens, regenerează și calmează iritațiile. Compoziție de origine naturală, ideală pentru toate tipurile de piele.

Masca Ta cu hidrogel conține extract de Centella Asiatica din Madagascar, care regenerează și calmează eficient iritațiile. Anexa betaina și acidul hialuronic hidratează intens și îmbunătățesc elasticitatea pielii.

După aplicarea măștii pielea este vizibil netezită , hidratată și strălucitoare. Formula cu ingrediente de origine naturală este potrivită pentru toate tipurile de piele, inclusiv pentru pielea sensibilă.

Ingrediente pe care le veți îndrăgi:

• Extract de Centella asiatica - regenerează, calmează iritațiile și are un efect anti-îmbătrânire.
• Acid hialuronic (4 forme) - hidratează intens, îmbunătățește elasticitatea și reține apa în epidermă.
• Betaina - hidratează eficient și protejează pielea împotriva pierderii de apă.
• Ulei de mentă de câmp - are un efect antiinflamator, de iluminare și hidratare.
• Extract de bujor - calmează, și acționează ca antioxidant.

Scop:

O mască concepută pentru toate tipurile de piele. Recomandată în special pentru pielea deshidratată, iritată, sensibilă și pentru pielea care are nevoie de regenerare.

Mod de utilizare:

Aplicați masca uniform pe fața curățată și lăsați-o să acționeze timp de 10-20 de minute. Îndepărtați masca și masați esența rămasă în piele. Efectuați un test de sensibilizare înainte de prima utilizare.

Ingrediente:

Extract de Centella Asiatica, Apă, Dipropilenglicol, Glicereth-26, Glicerină,1,2-Hexanediol, Betaină, Butilenglicol, Extract de rădăcină de Paeonia Suffruticosa, Poligliceril-10 Laurat, Chamomilla Recutita (Matricaria) Extract de flori, Gliceril caprilat, Carbomer, Guma xantan, Arginina, Etilhexilglicerină, Hialuronat de sodiu, Dextrină, Theobroma Cacao (Extract de cacao), Propanediol, Extract de rădăcină de Coptis Japonica, Ulei de frunze de Mentha Arvensis, Hialuronat de sodiu Crosspolymer, Glicozamino Glycan s, Benzil glicol, Acid hialuronic hidrolizat, Acid hialuronic, Cetonă de zmeură, EDTA disodic.