Enough Colagen Moisture Foundation Nuanță 21 - 100 ml

Fondul de ten hidratant cu colagen Enough este un fond de ten opac care combină proprietățile de îngrijire a pielii cu cele de protecție. Conține , printre altele , colagen, beta-glucan, hialuronat de sodiu și Centella Asiatica, care hidratează, tonifică și regenerează pielea. În plus, are un filtru SPF 15 pentru a proteja pielea de razele UV dăunătoare. Oferă o acoperire medie, se adaptează la tonul pielii, matificând perfect imperfecțiunile pielii, fără a evidenția porii sau a provoca strălucire.

Un ten uniform, ideal!

Fondul de ten „Enough Collagen Moisture” este un fond de ten inovator pentru față, care oferă îngrijire și protecție completă a pielii. Formula sa se bazează pe ingrediente selectate, printre care colagen, beta-glucan, hialuronat de sodiu și extract de Centella Asiatica. Fondul de ten nu numai că oferă o acoperire excelentă, dar are grijă și de sănătatea și starea pielii. Formula sa inovatoare asigură un finisaj mat, fără strălucire, uniformizând imperfecțiunile și netezind suprafața pielii.

Ingrediente pe care le vei îndrăgi:

• Colagenul este un ingredient cheie care favorizează elasticitatea și fermitatea pielii. Acesta acționează ca un agent hidratant, prevenind pierderea de umiditate și îmbunătățind starea generală a pielii.
• Centella Asiatica, cunoscută și sub denumirea de Centella Asiatica, este un ingredient natural cu numeroase proprietăți de îngrijire a pielii. Este bogată în substanțe antiinflamatorii și antioxidante care ajută la întărirea barierei cutanate, la calmarea iritațiilor și la reducerea roșeții.
• Centella Asiatica este un ingredient natural pentru îngrijirea pielii.
• Beta-glucanul, cunoscut pentru proprietățile sale calmante și regenerative, susține procesele de vindecare și refacere ale pielii, redându-i un aspect sănătos. Hialuronatul de sodiu, pe de altă parte, acționează ca un puternic agent hidratant, atrăgând și reținând umezeala în piele, rezultând o piele netedă, suplă și bine hidratată.

Fondul de ten Enough Collagen Moisture este o alegere excelentă pentru cei care caută un produs care nu înfundă porii și nu îi face să pară mai mari, și care, de asemenea, nu usucă pielea. Datorită ingredientelor hidratante, precum colagenul, produsul previne deshidratarea pielii, conferindu-i elasticitate și catifelare

Fitr SPF 15

Fondul de ten Enough Collagen Moisture are un filtru SPF 15 care oferă o protecție eficientă împotriva razelor UV dăunătoare, reducând riscul de fotoîmbătrânire și de decolorare a pielii.

Combinând proprietățile de îngrijire a pielii cu cele de protecție, fondul de ten hidratant Enough Collagen nu numai că acoperă perfect imperfecțiunile pielii, dar menține pielea sănătoasă și tânără, protejând-o în același timp de factorii nocivi din mediu. Textura sa ușoară face aplicarea ușoară și plăcută, iar efectul durează toată ziua, lăsând pielea netedă, mată și strălucitoare.

Mod de utilizare:

Aplicați cantitatea necesară de produs pe dosul mâinii folosind dozatorul. Aplicați pe pielea curățată în prealabil folosind un burete cosmetic, o pensulă specială sau degetele. Întindeți uniform pe față.

Ingrediente:

Water, Cyclopentasiloxane, Titanium Dioxide, Cyclohexasiloxane, Caprylic/Capric Triglyceride, Glycerin, Dimethicone, Butylene Glycol, Cetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone, Sorbitan Sesquioleate, Ozokerite, Sodium Chloride, Dimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer, CI 77492, Stearalkonium Hectorite, Sodium Hyaluronate, Magnesium Aluminum Silicate, Phenoxyethanol, CI 77499, CI 77491, Beta-Glucan, Triethoxycaprylylsilane, Hydrolyzed Collagen, Fragrance, Betaine, Linalool, Centella Asiatica Extract, Benzyl Salicylate, Benzyl Alcohol, Hexyl Cinnamal.